浙江大学理学部导师介绍：刘润

　　姓名：刘润
　　性别：男
　　所在学院：理学部
　　单位：化学系
　　职称：副教授

　　个人简介
　　教育背景：
　　华东理工大学化学系获学士学位(1988-1992),
　　华东理工大学物理化学专业获硕士学位(1992-1995),
　　密苏里-罗拉大学(University of Missouri-Rolla)化学系获博士学位并作博士后研究工作（1998-2004）

　　工作经历：
　　华东理工大学助教，讲师（1995-1998）
　　2004．11-现在 浙江大学化学系物理化学研究所, 副教授，硕导。

　　研究简介：
　　目前主要从事材料电化学，半导体光电化学和功能材料薄膜与器件的研究。
　　已在J． Phys．Chem．B，Chem． Mater．, Appl． Phys． Lett．, Crystal Growth & Design 等期刊上 发表论文30余篇,论文他引达550余次，最高单篇引用次数达167次。
　　研究工作得到国家973重大科学研究计划，国家自然科学基金，浙江省自然科学基金，教育部博士点新教师基金及留学回国人员基金等资助，在此深表感谢。
　
　　Selected Papers (* Corresponding Author):
　　1． K． L Chen, R． Liu*, H． Wang, Y． F． Zheng, Z． D． Xu, “Room Temperature Electrodeposition of Oriented AgI Crystals”, J． Electrochem． Soc．, 2011,158 (4), D200-D204．
　　2． H． L． Kang, R． Liu*, K． L． Chen, Y． F． Zheng, Z． D． Xu, " Electrodeposition and Optical Properties of Highly Oriented CuI Thin Films",Electrochim．Acta, 2010, 55(27), 8121-8125．
　　3． H． Li, R． Liu*, Honglang, Kang, Y． F． Zheng and Z． D． Xu “Growth and characterization of Highly Oriented Cubr thin Films Through Room Temperature electrochemical route”, Electrochim． Acta, 2008, 54: 242-246
　　4． H． Li, R．Liu*, Y． F． Zheng, W．X． Chen and Z． D． Xu “Morphology Control of Electrodeposited Cu2O Crystals in Aqueous Solution using Room Temperature　Hydrophilic Ionic Liquids” Crystal Growth &Design, 2006, 6(12): 2795-2798． (Cited 49 times)
　　5． X． F． Han, R． Liu*, Z． D． Xu, W． X． Chen and Y． F． Zheng, “Room Temperature Deposition of Nanocrystalline Cadmium Peroxide Thin Films by Electrochemical Route”, Electrochem． Commun． 2005, 7 (12), 1195-1198． (Cited 12 times)
　　6． R．Liu, E．A．Bulp, F．Oba, E．W．Bohannan, F．Ernst, J． A． Switzer,“Epitaxial Electrodeposition of High-Aspect-Ratio Cu2O　(110) Nanostructures on InP(111)” Chem．Mater． 2005, 17: 725-729 ． (Cited 41 times)
　　7． R．Liu,F．Oba, E．W．Bohannan, F．Ernst, J．A．Switzer “Shape Control in Epitaxial Electrodeposition: Cu2O Nanocubes on InP(001)”, Chem． Mater． 2003, 15: 4882-4885 (Cited 76 times)
　　8． R．Liu,F．Oba, E．W．Bohannan, F．Ernst, J．A．Switzer “Epitaxial Electrodeposition of Cu2O Films onto InP(100)”, Appl． Phys． Lett．, 2003, 83: 1944-1946． (Cited 31 times)
　　9． J．A．Switzer, R．Liu, E． W． Bohannan, and F． Ernst “Epitaxial Electrodeposition a Crystalline Metal Oxide onto Single-Crystal Silicon”, J． Phys． Chem． B, 2002, 106: 12369-12372． (Cited 26 times)
　　10． R． Liu, A． A． Vertegel, E． W． Bohannan, T． A． Sorenson, and J． A． Switzer, “Epitaxial Electrodeposition of Zinc Oxide Nanopillars onSingle-Crystal Gold”, Chem Mater． 2001, 13: 508-512． （Cited 167 times)

　　工作研究领域：
　　目前主要从事材料电化学，光电化学和功能薄膜与器件的研究。 电沉积，外延生长，界面和表面光电化学，电化学法制备结构可控的半导体薄膜,组装有序纳米结构并将其应用于光电器件,太阳能电池及光电催化等方面。

　　授权专利：
　　1． 刘润, 徐铸德, 王辉, 陈科立，采用电沉积制备氟化钙或稀土掺杂氟化钙薄膜的方法，授权专利号：ZL 201010188743．8
　　2． 刘润, 王辉, 陈科立, 徐铸德，采用电沉积制备氟化锶或稀土掺杂氟化锶薄膜的方法，授权专利号：ZL 201010220120．4
　　3． 刘润, 徐铸德, 陈科立,王辉，一种均匀致密碘化亚铜半导体薄膜的电化学制备方法，授权专利号：ZL 201010188752．7
　　4． 刘润, 徐铸德, 陈科立,康红蓝，一种室温下合成高温相碘化亚铜的电化学制备方法，授权专利号：ZL 201010188755．0
　　5． 刘润, 徐铸德, 陈科立,王辉，一种电沉积碘化银半导体薄膜的电化学制备方法，授权专利号：ZL 201010188759．9
　　6． 薛斌, 徐铸德, 刘润，一种中空二氧化钛纳米球的制备方法，授权专利号：ZL 200910098714．X7． 薛斌, 徐铸德